產(chǎn)品展示PRODUCTS
Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率
更新時(shí)間：2026-04-24
訪問(wèn)量：12
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
生產(chǎn)地址：德國(guó)
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥 |
Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率
Hellma氟化鈣LD-A型號(hào)核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)
193nm深紫外波段專(zhuān)用優(yōu)化，超高透過(guò)率與低吸收損耗
Hellma CaF? LD-A材料是針對(duì)193nm ArF準(zhǔn)分子激光波段定向開(kāi)發(fā)的高純光學(xué)級(jí)材料，在深紫外區(qū)域具備的光學(xué)傳輸性能。常規(guī)光學(xué)玻璃、石英材料在193nm波段會(huì)出現(xiàn)強(qiáng)烈吸收與透過(guò)率衰減，無(wú)法滿足激光傳輸與光刻成像需求，而LD-A型號(hào)氟化鈣單晶在193nm處透過(guò)率可達(dá)90%以上，且吸收系數(shù)極低，幾乎不產(chǎn)生激光能量損耗與熱累積。材料經(jīng)過(guò)紫外波段專(zhuān)屬退火、雜質(zhì)去除、晶格優(yōu)化處理，消除了色心、空位、金屬離子等導(dǎo)致紫外吸收的缺陷，保證在高功率紫外激光連續(xù)照射下不褪色、不損傷、不改變光學(xué)性能，是193nm光刻系統(tǒng)、激光清洗、紫外光譜檢測(cè)系統(tǒng)的理想基材。
高品質(zhì)單晶結(jié)構(gòu)與<111>優(yōu)晶體取向，光學(xué)均勻性行業(yè)
該產(chǎn)品采用單晶（monokristallin）結(jié)構(gòu)，整體由單一連續(xù)晶格組成，無(wú)晶界、無(wú)位錯(cuò)聚集、無(wú)微裂紋、無(wú)雜質(zhì)偏析，光學(xué)均勻性遠(yuǎn)超多晶氟化鈣與普通熔融石英。單晶結(jié)構(gòu)可保證折射率均勻一致，避免光線傳輸過(guò)程中的散射、畸變、光斑離散，保證成像精度與激光傳輸質(zhì)量。
同時(shí)產(chǎn)品采用<111>晶體取向，這是氟化鈣材料在深紫外激光應(yīng)用中經(jīng)過(guò)大量驗(yàn)證的優(yōu)取向。<111>晶面具備最高的結(jié)構(gòu)對(duì)稱性、低的雙折射率、優(yōu)的應(yīng)力分布特性，可顯著降低激光誘導(dǎo)損傷閾值（LIDT）敏感性，提升元件抗高功率激光沖擊能力；在高溫、高壓、強(qiáng)激光輻射環(huán)境下，<111>取向的晶格結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，不會(huì)出現(xiàn)應(yīng)力開(kāi)裂、折射率畸變、雙折射增大等問(wèn)題，保證光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行漢達(dá)森yyds吳亞男。
